TÁRGYKÖVETELMÉNYEK
Követelmény: 0/2/0/F/3 Félév:

Fizika BSc AF és MSc Nanotech.-anyagtud. spec. kötelezően választható tárgya

Nyelv: magyar

Előadó: Dr. Kiss Gábor

Jelenléti követelmények: Részvétel az előadások legalább 70%-án

Követelmények szorgalmi időszakban: 2db zárthelyi dolgozat. A pótZH a szorgalmi időszakban, a pótpótZH pedig a pótlasi héten lesz megtartva.

A félév végi osztályzat kialakítása: a számonkérések jegyének átlagából

Konzultációk: Szükség esetén a hallgatókkal történő megegyezés alapján.

Mikrotechnológia, nanotechnológia és molekuláris nanotechnológia definíciója, összehasonlítása, egymáshoz való viszonya. A technológia feltételei.Mikro- és nanofizika. Vékonyrétegek leválasztására alkalmas módszerek: fizikai rétegleválasztási módszerek (vákuumpárologtatás, lézerablációs párologtatás, molekulasugaras epitaxiás rétegnövesztés, porlasztás), kémiai rétegleválasztási módszerek (kémiai gőzfázisú leválasztás).Adalékolás (diffúzió, ionimplantáció). Litográfia (foto, röntgensugaras, elektronsugaras, ionsugaras).Rétegeltávolítási technológiák: nedves "kémiai" marás, száraz marás (plazma, ionsugaras). Rétegminősítési eljárások: röntgendiffrakció, transzmissziós elektronmikroszkópia, pásztázó elektronmikroszkópia, szekunder ion tömegspektrometria, röntgen fotoelektron-spektroszkópia, Auger elektronspektroszkópia, pásztázó alagútmikroszkópia, atomerő mikroszkópia.Vastagréteg technológia: szitanyomtatás, beégetés, vastagréteg paszták.Nanométeres eszközök: egy elektronnal működő eszközök, rezonáns alagúteffektuson alapuló eszközök, mikro-elektromechanikai rendszerek, szenzorok. Molekuláris nanotechnológia.